&

11月18日至20日，第二十一屆中國國際半導(dǎo)體博覽會（IC CHINA 2024）在北京·國家會議中心盛大召開。

作為中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會主辦的唯一展覽會，本屆展會以 “創(chuàng)芯使命?聚勢未來” 為主題，聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈、供應(yīng)鏈和超大規(guī)模應(yīng)用市場，全面呈現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展趨向與技術(shù)創(chuàng)新成果，匯聚全球行業(yè)資源。

來自半導(dǎo)體材料、設(shè)備、設(shè)計(jì)、制造、封測和下游應(yīng)用等全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)的550余家企業(yè)參展，涵蓋眾多國內(nèi)外半導(dǎo)體龍頭企業(yè)。來自美國、日本、韓國、馬來西亞、巴西等國家的半導(dǎo)體行業(yè)組織也分享了當(dāng)?shù)氐漠a(chǎn)業(yè)動態(tài)，并與中方代表展開深度交流。

聚光科技自主孵化子公司譜育科技應(yīng)邀參展，攜EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS）、GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器等多款半導(dǎo)體領(lǐng)域的自主創(chuàng)新產(chǎn)品精彩亮相。展會現(xiàn)場，譜育科技通過實(shí)物展示與技術(shù)講解，生動詮釋了產(chǎn)品的核心技術(shù)優(yōu)勢及廣泛應(yīng)用，吸引了眾多專家、客戶、媒體及同行駐足交流。

面對半導(dǎo)體行業(yè)日益增長的檢測需求，聚光科技及譜育科技依托二十余年在質(zhì)譜、光譜、色譜等前沿技術(shù)領(lǐng)域的深厚積累，積極推出高度定制化、系統(tǒng)自動化的半導(dǎo)體行業(yè)專用創(chuàng)新產(chǎn)品與解決方案，在半導(dǎo)體制程金屬污染檢測、半導(dǎo)體電子特氣泄漏檢測、潔凈室氣態(tài)分子污染物監(jiān)測等應(yīng)用領(lǐng)域，幫助客戶提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，同時(shí)為國產(chǎn)科學(xué)儀器在高端檢測領(lǐng)域的創(chuàng)新發(fā)展注入強(qiáng)勁動力。

半導(dǎo)體制程金屬離子檢測

EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

作為“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”的重要成果，聚光科技自2013年發(fā)布首臺單四極桿ICP-MS以來，持續(xù)推動技術(shù)升級，成功掌握了多個(gè)質(zhì)譜分析技術(shù)平臺，實(shí)現(xiàn)了高端質(zhì)譜“國產(chǎn)替代”規(guī)?；c產(chǎn)業(yè)化。截至目前，7000系列ICP-MS累計(jì)下線超1000套，標(biāo)志著質(zhì)譜儀器在國產(chǎn)替代進(jìn)程中取得了里程碑式突破。

EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS）是公司基于十余年技術(shù)積累推出的重磅產(chǎn)品，專為半導(dǎo)體行業(yè)痕量元素分析量身打造，已獲國際半導(dǎo)體協(xié)會SEMI S2認(rèn)證。

EXPEC 7350系列采用創(chuàng)新的MS/MS模式，有效提升干擾消除能力。結(jié)合三重四極桿設(shè)計(jì)、高速動態(tài)碰撞反應(yīng)池、直角離子透鏡、垂直等離子體等多項(xiàng)核心技術(shù)，產(chǎn)品在檢測靈敏度和穩(wěn)定性上表現(xiàn)卓越，廣泛應(yīng)用于超純濕電子化學(xué)品、電子特氣及碳化硅片等領(lǐng)域，尤其在金屬離子痕量分析方面提供了可靠的解決方案。

完整的半導(dǎo)體分析配套：百級超凈實(shí)驗(yàn)室

芯片制造對環(huán)境和檢測設(shè)備要求極為嚴(yán)苛，任何顆?；螂s質(zhì)污染都可能導(dǎo)致元件失效，造成巨大損失。譜育科技針對半導(dǎo)體行業(yè)組建專業(yè)團(tuán)隊(duì)，配備百級超凈實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)出EXPEC 7350系列整體解決方案。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)~0.1ppt級別的痕量元素檢測能力，可滿足Grade 5級別及以上超高純試劑中雜質(zhì)檢測需求，性能指標(biāo)達(dá)國際先進(jìn)水平。通過針對超凈環(huán)境的精準(zhǔn)監(jiān)控及高純材料的質(zhì)量檢測，為國產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)的穩(wěn)定生產(chǎn)與技術(shù)突破提供了強(qiáng)有力的技術(shù)支撐。

半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域

硅、碳化硅、氮化鎵等晶圓的表面金屬及體金屬的多元素雜質(zhì)的快速檢測；
半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室分析以及生產(chǎn)制程中高純度濕電子化學(xué)品雜質(zhì)元素檢測；
光刻膠及其相關(guān)溶劑中超痕量雜質(zhì)元素快速檢測；
高純銅、鋁、鈦、鉭、鉬等高純?yōu)R射靶材中70種以上超痕量雜質(zhì)元素快速檢測；
高純?nèi)谆X、四氯化鈦等復(fù)雜基質(zhì)前驅(qū)體中超痕量雜質(zhì)元素快速檢測；
高純單晶硅、多晶硅表面金屬雜質(zhì)和體金屬雜質(zhì)元素快速檢測；
高純電子特氣中超痕量雜質(zhì)元素快速檢測。

典型應(yīng)用案例：EXPEC 7350系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀助力半導(dǎo)體企業(yè)高效控制金屬污染

EXPEC 7350 系列已成功應(yīng)用于多家大型半導(dǎo)體企業(yè)。其中一家專注于寬禁帶半導(dǎo)體材料（如碳化硅和氮化鎵）的研發(fā)與晶片制造，對痕量金屬污染的檢測精度和干擾控制有著嚴(yán)格的要求。EXPEC 7350 系列用于該企業(yè)襯底拋光片、外延片及高純試劑中的痕量金屬雜質(zhì)檢測。

EXPEC 7350系列憑借垂直炬管設(shè)計(jì)和MS/MS模式，能夠高效應(yīng)對高基質(zhì)樣品的多原子離子干擾，提供高靈敏度和精準(zhǔn)的分析結(jié)果。設(shè)備安裝調(diào)試后，其檢出限、穩(wěn)定性、氧化物產(chǎn)率等性能指標(biāo)全部通過驗(yàn)收。經(jīng)過半年使用，設(shè)備表現(xiàn)穩(wěn)定，客戶對其性能及譜育科技的售后服務(wù)給予高度認(rèn)可。

半導(dǎo)體電子特氣泄漏檢測

GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器

GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器憑借先進(jìn)智能傳感器技術(shù)，可精準(zhǔn)偵測40多種半導(dǎo)體特氣，如硅烷、磷烷、三氟化氮等，廣泛適用于半導(dǎo)體制造、光伏電池生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)室等高要求場景。

設(shè)備采用通用化設(shè)計(jì)，兼容多種檢測原理，降低購置成本并提升適配性。內(nèi)置核心處理器支持離線校準(zhǔn)，即插即用，顯著簡化維護(hù)流程。多樣化供電與通訊方式，如24V直流供電和POE HUB供電，便于實(shí)時(shí)監(jiān)控。彩色TFT顯示結(jié)合高亮LED和自定義顯示區(qū)域，信息直觀清晰，提升用戶體驗(yàn)的同時(shí)優(yōu)化安全與生產(chǎn)效率。

典型應(yīng)用案例：GDM-2100 Series半導(dǎo)體用氣體探測器護(hù)航12英寸集成電路生產(chǎn)線安全運(yùn)行

在國內(nèi)某12英寸集成電路生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目中，GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器發(fā)揮著重要作用，助力芯片工廠實(shí)現(xiàn)氣體泄漏精準(zhǔn)偵測與智能預(yù)警，全面保障生產(chǎn)線的安全穩(wěn)定運(yùn)行。

該項(xiàng)目中，譜育科技提供了基于多種檢測技術(shù)原理的高性能氣體傳感器，包括電化學(xué)（EC）和非分散紅外（NDIR）等技術(shù)，共選用了30多種不同氣體類型的氣體探測器，覆蓋芯片制造全過程中的有毒有害氣體監(jiān)測需求。

這些氣體探測器以其高靈敏度和穩(wěn)定性，能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測氣體濃度，快速響應(yīng)泄漏事件，為工廠構(gòu)建全方位、多層次的氣體安全防護(hù)網(wǎng)。

潔凈室氣態(tài)分子污染物監(jiān)測

AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)

AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)通過分布式多點(diǎn)采樣器，可搭配國產(chǎn)先進(jìn)分析儀器，實(shí)現(xiàn)對半導(dǎo)體潔凈室酸類（MA）、堿類（MB）、可凝聚物（MC）及揮發(fā)性有機(jī)物等的ppb級高精度監(jiān)測，打破國外技術(shù)壟斷。

AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)中的氣體分析系統(tǒng)采用多種國產(chǎn)高端分析儀器，集成國標(biāo)認(rèn)可的先進(jìn)技術(shù)，包括GC-MS、CRDS、紫外熒光、化學(xué)發(fā)光、GC-PID/FID和紫外吸收法等，可根據(jù)企業(yè)需求靈活定制，滿足多樣化監(jiān)測需求。

AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)檢出限低至0.1ppb，采樣管路覆蓋范圍達(dá)200m，支持網(wǎng)格化分析，實(shí)現(xiàn)廠區(qū)環(huán)境實(shí)時(shí)監(jiān)控。特殊處理管路有效避免樣品吸附與揮發(fā)，結(jié)合獨(dú)特反吹功能和超標(biāo)自動留樣至蘇瑪罐驗(yàn)證，確保數(shù)據(jù)真實(shí)可靠。模塊化設(shè)計(jì)支持定制化開發(fā)，滿足半導(dǎo)體潔凈室及廠區(qū)痕量氣體檢測多樣化需求，為高效生產(chǎn)與環(huán)境安全保駕護(hù)航。

AMC 1000輔助方案：移動推車式AMC監(jiān)測系統(tǒng)

移動推車式AMC監(jiān)測系統(tǒng)可搭配不同的分析儀或校準(zhǔn)儀，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體潔凈室AMC微污染氣體的移動監(jiān)測。推車內(nèi)部搭載大容量電池組，可長時(shí)間脫離市電獨(dú)立運(yùn)行，及時(shí)檢測排查潔凈室潛在或已有的污染源，可定制觸屏式工控機(jī)查看實(shí)時(shí)監(jiān)測數(shù)據(jù)與歷史數(shù)據(jù)。

典型應(yīng)用案例：AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)——助力晶圓廠環(huán)境監(jiān)測與生產(chǎn)優(yōu)化

國內(nèi)領(lǐng)先的12英寸晶圓廠采用譜育科技AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)測潔凈室氣態(tài)分子污染物。該系統(tǒng)通過分布式多點(diǎn)采樣器實(shí)現(xiàn)連續(xù)多點(diǎn)在線監(jiān)測，并支持移動推車式靈活操作，實(shí)現(xiàn)了對酸類（MA）、堿類（MB）、可凝聚物（MC）、揮發(fā)性有機(jī)物等ppb級別的精準(zhǔn)監(jiān)測，實(shí)時(shí)反映污染物濃度變化，為潔凈室環(huán)境管理和生產(chǎn)優(yōu)化提供了精準(zhǔn)可靠的數(shù)據(jù)支持。

AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)顯著提升了生產(chǎn)良率，降低設(shè)備損耗，同時(shí)優(yōu)化運(yùn)營成本。通過全面保障晶圓制造環(huán)境的穩(wěn)定性，該系統(tǒng)為企業(yè)生產(chǎn)提供了高效可靠的技術(shù)保障。

聚光科技始終堅(jiān)持自主創(chuàng)新，持續(xù)加大研發(fā)投入，專注于攻克技術(shù)瓶頸、突破性能極限，為半導(dǎo)體行業(yè)提供更高效、更精準(zhǔn)的解決方案，助力客戶應(yīng)對復(fù)雜挑戰(zhàn)、實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)優(yōu)化。聚光科技將以技術(shù)深度賦能行業(yè)發(fā)展，以應(yīng)用廣度拓展市場空間，全面提升國產(chǎn)高端科學(xué)儀器在高端檢測領(lǐng)域的核心競爭力，為半導(dǎo)體行業(yè)高質(zhì)量發(fā)展注入強(qiáng)勁動能，為建設(shè)科技強(qiáng)國、加快實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng)貢獻(xiàn)力量。